最新推出的Si-MOSFET(超結(jié)MOSFET)是一款具有優(yōu)異性能和廣泛應(yīng)用領(lǐng)域的新產(chǎn)品。Si-MOSFET根據(jù)制造工藝可分為平面柵極MOSFET和超結(jié)MOSFET。平面柵極MOSFET在提高額定電壓時(shí),漂移層會(huì)變厚,導(dǎo)致導(dǎo)通電阻增加的問(wèn)題。而超結(jié)MOSFET通過(guò)在D端和S端排列多個(gè)垂直pn結(jié)的結(jié)構(gòu)來(lái)解決這個(gè)問(wèn)題,實(shí)現(xiàn)了在保持高電壓的同時(shí)降低導(dǎo)通電阻。

【硅的理論極限和超越硅極限的超級(jí)結(jié)】
超結(jié)MOSFET的優(yōu)勢(shì)在于其具有高耐壓和低電阻的特點(diǎn)。相較于普通高壓VDMOS,超結(jié)MOSFET的導(dǎo)通電阻遠(yuǎn)小,適用于高能效和高功率密度的快速開(kāi)關(guān)應(yīng)用。此外,超結(jié)MOSFET的額定電壓越高,導(dǎo)通電阻的下降越明顯,使其在中低功率水平下的高速運(yùn)行非常適合。
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【左邊是平面MOS,右邊是超結(jié)MOS】
超結(jié)MOSFET的制造工藝相較于常規(guī)MOSFET更加復(fù)雜,主要體現(xiàn)在溝槽的填充外延制造方法上。超級(jí)結(jié)MOSFET通過(guò)使溝槽和溝槽間距盡可能小和深,設(shè)計(jì)具有較低電阻的N層,實(shí)現(xiàn)了低導(dǎo)通電阻產(chǎn)品。
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【超級(jí)結(jié)中,trr比平面MOSFET快,irr電流更大】
超結(jié)MOSFET相較于平面MOSFET具有更大的pn結(jié)面積,因此在內(nèi)部二極管的反向電流和反向恢復(fù)時(shí)間方面存在一些問(wèn)題。雖然超結(jié)MOSFET的trr比平面MOSFET快,但irr電流更大。
以下是Si-MOSFET的常規(guī)制造工藝和超結(jié)制造工藝的對(duì)比:

【常規(guī)MOS制造工藝】

【超級(jí)結(jié)的溝槽填充外延制造方法】
此外,Si-MOSFET還與其他器件進(jìn)行了功率和頻率的比較,如IGBT、碳化硅MOS、平面/超結(jié)MOS等。
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【IGBT、碳化硅MOS、平面/超結(jié)MOS的功率和頻率比較】
Si-MOSFET系列產(chǎn)品以其先進(jìn)的生產(chǎn)工藝、優(yōu)良的性能和可靠的質(zhì)量在各個(gè)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。Si-MOSFET適用于電源、電機(jī)控制、照明等領(lǐng)域,特別適合于中低功率水平下的高速運(yùn)行需求。
以下是Si-MOSFET的一些關(guān)鍵特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì):
高耐壓:Si-MOSFET具有高額定電壓,能夠在高壓環(huán)境下穩(wěn)定工作。
低導(dǎo)通電阻:Si-MOSFET的導(dǎo)通電阻遠(yuǎn)小于傳統(tǒng)平面MOSFET,能夠提供更高的效率和功率密度。
高速開(kāi)關(guān):Si-MOSFET的超級(jí)結(jié)結(jié)構(gòu)使其具有快速開(kāi)關(guān)特性,適用于高頻率應(yīng)用。
可靠性:Si-MOSFET的產(chǎn)品質(zhì)量可靠,性能穩(wěn)定,適用于各種嚴(yán)苛的工作環(huán)境。